Digitalni repozitorij raziskovalnih organizacij Slovenije

Izpis gradiva
A+ | A- | Pomoč | SLO | ENG

Naslov:Reduction of graphene oxide flakes by treatment with non-equilibrium hydrogen plasma–review and challenges
Avtorji:ID Zelenak, František (Avtor)
ID Krumpolec, Richard (Avtor)
ID Kováčik, Dušan (Avtor)
ID Zaplotnik, Rok, Institut "Jožef Stefan" (Avtor)
ID Vesel, Alenka, Institut "Jožef Stefan" (Avtor)
ID Primc, Gregor, Institut "Jožef Stefan" (Avtor)
ID Mozetič, Miran, Institut "Jožef Stefan" (Avtor)
Datoteke:URL URL - Izvorni URL, za dostop obiščite https://link.springer.com/article/10.1007/s41614-026-00223-z
 
.pdf PDF - Predstavitvena datoteka, prenos (2,53 MB)
MD5: 59A4C9663E5614B134CE7609CE0B1B04
 
Jezik:Angleški jezik
Tipologija:1.02 - Pregledni znanstveni članek
Organizacija:Logo IJS - Institut Jožef Stefan
Povzetek:Graphene oxide (GO) is a standard precursor for the synthesis of porous yet densely packed, graphene-like structures in films with a thickness of several micrometers, which are useful for electrodes in various electrochemical devices, such as supercapacitors, as well as for various sensors. As-synthesized GO films exhibit inadequate electrical conductivity because of a large concentration of oxygen chemically bonded to graphene sheets. Heating of GO films in a non-oxidizing atmosphere will cause thermal decomposition of GO by desorption of carbon oxides, which will result in numerous defects in the sheets and partial collapsing of the sheets. An alternative is the treatment of GO films with non-equilibrium hydrogen plasma, which causes reduction rather than decomposition of the GO sheets. The scientific literature on approaches to reducing GO samples by treatment with hydrogen plasma is reviewed, the results are critically evaluated, and the correlations between the reduction efficiency and processing parameters are drawn. Paradoxically, larger discharge powers lead to worse results, both in terms of the remaining oxygen concentration and electrical properties. A feasible explanation for this paradox is radiation damage, which is likely caused by energetic photons or ions. The recommendation for further experiments in this tremendously promising niche is also presented.
Ključne besede:graphene oxide, hydrogen plasma, carbon materials
Status publikacije:Objavljeno
Verzija publikacije:Objavljena publikacija
Poslano v recenzijo:26.01.2026
Datum sprejetja članka:14.06.2026
Datum objave:26.06.2026
Založnik:Springer Nature
Leto izida:2026
Št. strani:str. 1-28
Številčenje:Vol. 10, article no. 13
PID:20.500.12556/DiRROS-31014 Novo okno
UDK:621.7+621.9
ISSN pri članku:2367-3192
DOI:10.1007/s41614-026-00223-z Novo okno
COBISS.SI-ID:284223747 Novo okno
Avtorske pravice:© The Author(s) 2026
Opomba:Nasl. z nasl. zaslona; Soavtorji iz Slovenije: Rok Zaplotnik, Alenka Vesel, Gregor Primc, Miran Mozetič; Opis vira z dne 9. 7. 2026;
Datum objave v DiRROS:10.07.2026
Število ogledov:110
Število prenosov:103
Metapodatki:XML DC-XML DC-RDF
:
Kopiraj citat
  
Objavi na:Bookmark and Share


Postavite miškin kazalec na naslov za izpis povzetka. Klik na naslov izpiše podrobnosti ali sproži prenos.

Gradivo je del revije

Naslov:Reviews of modern plasma physics
Skrajšan naslov:Rev. mod. plasma phys.
ISSN:2367-3192
COBISS.SI-ID:175526147 Novo okno

Gradivo je financirano iz projekta

Financer:ARIS - Javna agencija za znanstvenoraziskovalno in inovacijsko dejavnost Republike Slovenije
Številka projekta:L2-60139-2025
Naslov:Inovativna plazemsko pogojena sinteza superkondenzatorskih elektrod naslednje generacije z visoko gostoto moči iz zaloge grafenovega oksida

Financer:ARIS - Javna agencija za znanstvenoraziskovalno in inovacijsko dejavnost Republike Slovenije
Številka projekta:P2-0082-2022
Naslov:Tankoplastne strukture in plazemsko inženirstvo površin

Financer:Ministry of Education, Youth and Sports of the Czech Republic
Številka projekta:LM2023039

Licence

Licenca:CC BY 4.0, Creative Commons Priznanje avtorstva 4.0 Mednarodna
Povezava:http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/deed.sl
Opis:To je standardna licenca Creative Commons, ki daje uporabnikom največ možnosti za nadaljnjo uporabo dela, pri čemer morajo navesti avtorja.
Začetek licenciranja:26.06.2026
Vezano na:VoR

Sekundarni jezik

Jezik:Slovenski jezik
Ključne besede:grafenov oksid, vodikova plazma, ogljikovi materiali


Nazaj