Naslov: | Dielectric loss of Si[sub]2N[sub]2O and the influence of Li on its properties |
---|
Avtorji: | ID Yang, Yong (Avtor) ID He, Ming (Avtor) ID Zhang, Ting (Avtor) ID Wu, Meng-qiang (Avtor) |
Datoteke: | URL - Izvorni URL, za dostop obiščite https://mater-tehnol.si/index.php/MatTech/article/view/334/132
URL - Izvorni URL, za dostop obiščite https://mater-tehnol.si/index.php/MatTech/article/view/334
|
---|
Jezik: | Angleški jezik |
---|
Tipologija: | 1.01 - Izvirni znanstveni članek |
---|
Organizacija: | IMT - Inštitut za kovinske materiale in tehnologije
|
---|
Ključne besede: | Si2N2O, dielectric loss, high temperature, Li doping |
---|
Leto izida: | 2022 |
---|
Št. strani: | str. 79-84 |
---|
Številčenje: | Letn. 56, št. 1 |
---|
PID: | 20.500.12556/DiRROS-15188 |
---|
UDK: | 537.226.3:661.687 |
---|
ISSN pri članku: | 1580-2949 |
---|
DOI: | 10.17222/mit.2021.334 |
---|
COBISS.SI-ID: | 109957379 |
---|
Datum objave v DiRROS: | 22.06.2022 |
---|
Število ogledov: | 800 |
---|
Število prenosov: | 378 |
---|
Metapodatki: | |
---|
:
|
Kopiraj citat |
---|
| | | Objavi na: | |
---|
Postavite miškin kazalec na naslov za izpis povzetka. Klik na naslov izpiše
podrobnosti ali sproži prenos. |