Digitalni repozitorij raziskovalnih organizacij Slovenije

Izpis gradiva
A+ | A- | Pomoč | SLO | ENG

Naslov:Unlocking high capacitive energy-density in Sm-doped ▫$Pb(Mg_{1/3}Nb_{2/3})O_3–PbTiO_3$▫ thin films via strain and domain engineering
Avtorji:ID Hanani, Zouhair, Institut "Jožef Stefan" (Avtor)
ID Belhadi, Jamal (Avtor)
ID Daneu, Nina, Institut "Jožef Stefan" (Avtor)
ID Trstenjak, Urška, Institut "Jožef Stefan" (Avtor)
ID Shepelin, Nick A. (Avtor)
ID Bobnar, Vid, Institut "Jožef Stefan" (Avtor)
ID Lippert, Thomas (Avtor)
ID Spreitzer, Matjaž, Institut "Jožef Stefan" (Avtor)
Datoteke:URL URL - Izvorni URL, za dostop obiščite https://pubs.rsc.org/en/content/articlehtml/2025/tc/d5tc00384a
 
.pdf PDF - Predstavitvena datoteka, prenos (3,40 MB)
MD5: DC05948A377084777CC02F6030EEBC41
 
Jezik:Angleški jezik
Tipologija:1.01 - Izvirni znanstveni članek
Organizacija:Logo IJS - Institut Jožef Stefan
Ključne besede:relaxor ferroelectrics, thin films, strain analysis, electronic ceramics
Status publikacije:Objavljeno
Verzija publikacije:Objavljena publikacija
Poslano v recenzijo:27.01.2025
Datum sprejetja članka:04.02.2025
Datum objave:17.02.2025
Založnik:RSC Publishing
Leto izida:2025
Št. strani:str. 7140-7149
Številčenje:Vol. 13, iss. 14
Izvor:Združeno kraljestvo
PID:20.500.12556/DiRROS-22050 Novo okno
UDK:621.7+621.9
ISSN pri članku:2050-7534
DOI:10.1039/D5TC00384A Novo okno
COBISS.SI-ID:228261891 Novo okno
Avtorske pravice:© The Royal Society of Chemistry
Opomba:Nasl. z nasl. zaslona; Soavtorji iz Slovenije: Nina Daneu, Urška Trstenjak, Vid Bobnar, Matjaž Spreitzer; Opis vira z dne 7. 3. 2025;
Datum objave v DiRROS:17.04.2025
Število ogledov:660
Število prenosov:304
Metapodatki:XML DC-XML DC-RDF
:
Kopiraj citat
  
Objavi na:Bookmark and Share


Postavite miškin kazalec na naslov za izpis povzetka. Klik na naslov izpiše podrobnosti ali sproži prenos.

Gradivo je del revije

Naslov:Journal of materials chemistry : Materials for optical and electronic devices
Skrajšan naslov:J. mater. chem. C
Založnik:RSC Publications
ISSN:2050-7534
COBISS.SI-ID:16529686 Novo okno

Gradivo je financirano iz projekta

Financer:ARIS - Javna agencija za znanstvenoraziskovalno in inovacijsko dejavnost Republike Slovenije
Številka projekta:P2-0091
Naslov:Sodobni anorganski materiali in nanotehnologije

Financer:ARIS - Javna agencija za znanstvenoraziskovalno in inovacijsko dejavnost Republike Slovenije
Številka projekta:J2-2510
Naslov:Načrtovanje tankih plasti relaksorskih feroelektrikov za piezoelektrične aplikacije in shranjevanje energije

Financer:ARIS - Javna agencija za znanstvenoraziskovalno in inovacijsko dejavnost Republike Slovenije
Številka projekta:N2-0187
Naslov:Polprevodniško-dielektrične heterostrukture za foto-elektro-kemijski razvoj vodika

Financer:ARIS - Javna agencija za znanstvenoraziskovalno in inovacijsko dejavnost Republike Slovenije
Številka projekta:N2-0149
Naslov:Načrtovanje napetosti in domenskih struktur v epitaksialnih tankih plasteh relaksorskih feroelektrikov

Financer:ARIS - Javna agencija za znanstvenoraziskovalno in inovacijsko dejavnost Republike Slovenije
Številka projekta:P1-0125
Naslov:Fizika kvantnih in funkcionalnih materialov

Financer:SNSF - Swiss National Science Foundation
Program financ.:Projects
Številka projekta:192047
Naslov:Strain and domain structure engineering in epitaxial relaxor ferroelectric thin films

Licence

Licenca:CC BY 3.0, Creative Commons Priznanje avtorstva 3.0 Nedoločena
Povezava:https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/deed.sl
Opis:Dovoljuje kopiranje in razširjanje vsebin v kakršnemkoli mediju in obliki. Dovoljuje remixanje, urejanje, predelava in vključevanje vsebine v lastna dela v vse namene, tudi komercialne. Primerno morate navesti avtorja, povezavo do licence in označiti spremembe, če so kakšne nastale. To lahko storite na kakršenkoli razumen način, vendar ne na način, ki bi namigoval na to, da dajalec licence podpira vas ali vašo uporabo dela. Ne smete uporabiti pravnih določil ali tehničnih ukrepov, ki bi pravno omejili ali onemogočilo druge, da bi storili karkoli, kar licenca dovoli.
Začetek licenciranja:17.02.2025
Vezano na:VoR

Sekundarni jezik

Jezik:Slovenski jezik
Ključne besede:tanke plasti, elektronska keramika


Nazaj