Vaš brskalnik ne omogoča JavaScript!
JavaScript je nujen za pravilno delovanje teh spletnih strani. Omogočite JavaScript ali uporabite sodobnejši brskalnik.
Digitalni repozitorij raziskovalnih organizacij Slovenije
Uvodnik
Iskanje
Brskanje
Statistika
Obvestila
Kontakti
Prijava
Izpis gradiva
A+
|
A-
|
|
SLO
|
ENG
Naslov:
AFM study of roughness development during ToF-SIMS depth profiling of multilayers with a ▫$Cs^+$▫ ion beam in a ▫$H_2$▫ atmosphere
Avtorji:
ID
Ekar, Jernej
, Institut Jožef Stefan (Avtor)
ID
Kovač, Janez
, Institut Jožef Stefan (Avtor)
Datoteke:
URL - Izvorni URL, za dostop obiščite
https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.langmuir.2c01837
PDF - Predstavitvena datoteka,
prenos
(5,77 MB)
MD5: 517BD00514FFA332B779285C11855CD6
Jezik:
Angleški jezik
Tipologija:
1.01 - Izvirni znanstveni članek
Organizacija:
IJS - Institut Jožef Stefan
Status publikacije:
Objavljeno
Verzija publikacije:
Objavljena publikacija
Poslano v recenzijo:
13.07.2023
Datum objave:
14.10.2022
Založnik:
ACS Publications
Leto izida:
2022
Št. strani:
str. 12871–12880
Številčenje:
Vol. 38, no. 42
Izvor:
ZDA
PID:
20.500.12556/DiRROS-17172
UDK:
53
ISSN pri članku:
0743-7463
DOI:
10.1021/acs.langmuir.2c01837
COBISS.SI-ID:
128549635
Avtorske pravice:
© 2022 The Authors
Datum objave v DiRROS:
18.10.2023
Število ogledov:
902
Število prenosov:
319
Metapodatki:
Citiraj gradivo
Navadno besedilo
BibTeX
EndNote XML
EndNote/Refer
RIS
ABNT
ACM Ref
AMA
APA
Chicago 17th Author-Date
Harvard
IEEE
ISO 690
MLA
Vancouver
:
Kopiraj citat
Objavi na:
Postavite miškin kazalec na naslov za izpis povzetka. Klik na naslov izpiše podrobnosti ali sproži prenos.
Gradivo je del revije
Naslov:
Langmuir
Skrajšan naslov:
Langmuir
Založnik:
American Chemical Society
ISSN:
0743-7463
COBISS.SI-ID:
3267855
Gradivo je financirano iz projekta
Financer:
ARRS - Agencija za raziskovalno dejavnost Republike Slovenije
Številka projekta:
P2-0082
Naslov:
Tankoplastne strukture in plazemsko inženirstvo površin
Licence
Licenca:
CC BY 4.0, Creative Commons Priznanje avtorstva 4.0 Mednarodna
Povezava:
http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/deed.sl
Opis:
To je standardna licenca Creative Commons, ki daje uporabnikom največ možnosti za nadaljnjo uporabo dela, pri čemer morajo navesti avtorja.
Začetek licenciranja:
14.10.2022
Nazaj