Application of atomic force microscopy in preparing Ni-Al layer using a two-stage processLi, Ningning (Avtor) Hao, Zhenjie (Avtor) Xu, Lei (Avtor) Chen, Xi (Avtor) Peng, Jin (Avtor) Wei, Leyu (Avtor) Tang, Mingqi (Avtor) Tong, Yuping (Avtor) Ling, Zicheng (Avtor) Li, Yimin (Avtor) Ni-Al layeratomic force microscopynickel layermorphologyInštitut za kovinske materiale in tehnologije20252025-04-24 09:55:13Neznano22108UDK: 622.031.2:543.456ISSN pri članku: 1580-2949DOI: 10.17222/mit.2024.1352COBISS_ID: 233964291Slovenijasl© 2025 The Author(s)